[发明专利]平面印张材料无效
| 申请号： | 200610162456.3 | 申请日： | 2001-05-19 |
| 公开（公告）号： | CN101105647A | 公开（公告）日： | 2008-01-16 |
| 发明（设计）人： | 沃尔夫冈·波塞特 | 申请（专利权）人： | 沃尔夫冈·波塞特 |
| 主分类号： | G03G5/16 | 分类号： | G03G5/16;B41M5/30 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 顾嘉运 |
| 地址： | 德国埃伯丁*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及用来生产记录信息的片状印张(1)的平面的印张材料(2)。包含有细微空穴(3)的涂层(4)涂覆在印张材料(2)上。在涂层(4)中嵌入可电的和/或磁性可活化的微粒(5)。 | ||
| 搜索关键词： | 平面 印张 材料 | ||
【主权项】：
1.用来制造片状印张(1)的平面印张材料，所述印张用于用涂覆在印张材料(2)上的至少一层涂层(4，4’)来记录信息，其中在涂层(4)内嵌入可磁化微粒(5，9)，所述可磁化微粒(5，9)包括排列在高岭土/SBR层中的氧化铁，所述可磁化微粒(5，9)具有小于约3微米的颗粒度。
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