[发明专利]包导体的叠层、布线电路板及其制作工艺无效

专利信息
申请号: 200610162835.2 申请日: 2006-11-24
公开(公告)号: CN1972563A 公开(公告)日: 2007-05-30
发明(设计)人: 山内大辅 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: H05K3/00 分类号: H05K3/00;H05K3/06;H05K1/02;B32B15/08
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 孙志湧;陆锦华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 在卷到卷步骤中,粘合剂溶液被涂布到包括聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的释放膜(1)并且该膜(1)穿过被调节到60到150℃的干燥炉(500),以由此形成粘合层(2)。接着,包括聚酰亚胺膜的绝缘膜(3)在室温下被层叠在粘合层(2)上,以由此制作包括释放膜(1)、粘合层(2)和绝缘膜(3)的分层的制品(6),其中室温大约为25℃。接着,释放膜(1)从分层的制品(6)剥离,并且包括铜箔的导体膜(4)被层叠到粘合层(2)以由此制作包导体的叠层(8)。
搜索关键词: 导体 布线 电路板 及其 制作 工艺
【主权项】:
1.一种制作包导体的叠层的工艺,其包括:在释放膜上形成粘合层,以由此制作包括释放膜和粘合层的第一分层的制品;在第一分层的制品的粘合层上层叠绝缘膜,以由此制作包括绝缘膜、粘合层和释放膜的第二分层的制品;从第二分层的制品去除释放膜,以由此制作包括绝缘膜和粘合层的第三分层的制品;以及在第三分层的制品的粘合层上层叠导体膜。
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