[发明专利]气体分布装置有效

专利信息
申请号: 200610164845.X 申请日: 2006-12-06
公开(公告)号: CN101197270A 公开(公告)日: 2008-06-11
发明(设计)人: 荣延栋 申请(专利权)人: 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
主分类号: H01L21/3065 分类号: H01L21/3065;H01L21/00;H01J37/32
代理公司: 北京凯特来知识产权代理有限公司 代理人: 赵镇勇;郭宗胜
地址: 100016北京市*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种气体分布装置,用于向反应腔室供气,包括中部供气装置和边缘供气装置,中部供气装置包括喷嘴,设于反应腔室的上壁的中部,用于为反应腔室的中部区域供气;边缘供气装置包括进气环,设于反应腔室内上部的边缘部位,进气环上均匀设置有多个进气孔,用于为反应腔室的边缘区域供气。中部供气装置和边缘供气装置设有单独的供气气路,并设有单独的流量控制装置。使得反应腔室内的硅片上方中央与周围气体分布均匀,尤其适用于半导体硅片加工设备的供气系统中,也适用于其它场合的供气。
搜索关键词: 气体 分布 装置
【主权项】:
1.一种气体分布装置,用于向反应腔室供气,包括中部供气装置和边缘供气装置,所述中部供气装置包括喷嘴,所述喷嘴设于反应腔室的上壁的中部,并与反应腔室相通,用于为反应腔室的中部区域供气;所述边缘供气装置包括进气环,所述进气环设于反应腔室内上部的边缘部位,用于为反应腔室的边缘区域供气。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司,未经北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200610164845.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top