[发明专利]反应腔室内衬及包含该内衬的反应腔室

摘要

本发明公开了一种反应腔室内衬及包含该内衬的反应腔室，包括侧面内衬、底面内衬，侧面内衬分里层内衬和外层内衬两层，其间形成封闭空间；里层内衬开有多个气孔，外层内衬开有内衬进气开口和内衬排气开口，分别与反应腔室的进气口和排气口相对应，工艺气体首先进入里层内衬与外层内衬之间的封闭空间，然后通过里层内衬上的气孔进入到反应腔室，再由反应腔室进入到里层内衬与外层内衬之间的封闭空间，并由排气口排出。使反应腔室内的气体流速趋于均匀化，既能使腔室壁得到保护、又能使腔室内的气体分布均匀。主要适用于半导体加工设备的反应腔室，也适用于其它类似的腔室。

主权项

1.一种反应腔室内衬，包括侧面内衬、底面内衬，其特征在于，所述的侧面内衬分两层，分别为里层内衬和外层内衬，所述里层内衬和外层内衬的上缘相互连接；下缘分别与底面内衬连接，里层内衬与外层内衬之间形成封闭空间；所述里层内衬开有多个气孔；所述外层内衬开有内衬进气开口和内衬排气开口。