[发明专利]平衡薄膜应力的薄膜制作系统与方法

摘要

本发明公开了一种平衡薄膜应力的薄膜制作系统与方法，是先以离子辅助蒸镀法(IAD)镀一层与基材类似折射率的薄膜，再以热蒸镀法镀所设计的薄膜结构，此两种镀膜方法所产生的薄膜具有相反的薄膜应力，当结合制作于基材上形成一薄膜结构时，因为应力的影响不同而藉以平衡薄膜的表面翘曲，改善镀膜后表面的平整度。

主权项

1.一种平衡薄膜应力的薄膜制作系统，其特征在于，该系统包括有：一离子辅助蒸镀手段，是在一基材上镀上一第一层薄膜，该第一层薄膜的光学特性接近该基材；以及一热蒸镀手段，是在该基材上镀上一第二层薄膜，该第二层薄膜与该第一层薄膜具有相反的薄膜应力；其中该第一层薄膜与该第二层薄膜之一为一具有凸面特性的薄膜，而另一则为一具有凹面特性的薄膜；藉重复该离子辅助蒸镀手段与该热蒸镀手段形成一多层膜的薄膜结构，并且该平衡薄膜应力的薄膜制作系统在该基材上镀上具有相反应力的该第一层薄膜与该第二层薄膜，藉以调整所形成的薄膜结构的表面平整度。