[发明专利]用于热增强和等离子体增强气相沉积的装置及操作方法

摘要

本发明公开了在衬底上进行气相沉积的方法、计算机可读介质以及系统：将衬底布置在处理系统的处理空间中，处理空间与处理系统的传递空间真空隔离；在处理空间中的第一位置或第二位置对衬底进行处理，同时保持与传递空间的真空隔离；在第一位置或第二位置在所述衬底上沉积材料。同样，该系统包括第一组件，第一组件设置有便于材料沉积的处理空间；第二组件，连接到第一组件并具有便于将衬底传递进出沉积系统的传递空间；衬底载台，连接到第二组件并设置为支撑衬底以及将衬底在传递空间中的第一位置到处理空间中的第二位置之间进行平移。该系统包括密封组件，密封组件设置为在衬底在处理空间中平移的过程中阻挡气体在处理空间与传递空间之间的流动。

主权项

1.一种用于在衬底上形成沉积物的沉积系统，包括：第一组件，具有处理空间，所述处理空间设置为便于材料沉积；第二组件，连接到所述第一组件并具有传递空间，所述传递空间便于将所述衬底传递进出所述沉积系统；衬底载台，连接到所述第二组件并设置为对所述衬底进行支撑以及将所述衬底在所述处理空间中的第一位置到所述处理空间中的第二位置之间进行传递以改变所述处理空间的大小；以及密封组件，具有密封件，所述密封件设置为在所述衬底在所述处理空间中的平移过程中阻挡气体在所述处理空间与所述传递空间之间流动。