[发明专利]液晶面板的晶胞厚间隙形成方法有效

专利信息
申请号: 200610170492.4 申请日: 2006-12-31
公开(公告)号: CN101211071A 公开(公告)日: 2008-07-02
发明(设计)人: 曾令远;廖正兴 申请(专利权)人: 曾令远;草田敦男
主分类号: G02F1/1339 分类号: G02F1/1339;G02F1/1333;G02F1/1337;G02F1/1341
代理公司: 天津三元专利商标代理有限责任公司 代理人: 胡婉明
地址: 中国台湾新*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提供一种液晶面板的晶胞厚间隙形成方法,包括:(A)底面基板及顶面基板定位;(B)隔离层移动至定位;(C)隔离层粘合至底面基板:(D)注入液晶于隔离层之空洞中;(E)粘合隔离层与顶面基板;(F)用紫外光设备照射加热;(G)裁切成型,形成一厚晶胞间隙的液晶面板产品;节省间隔粒成本,提升液晶晶胞生产质量。
搜索关键词: 液晶面板 晶胞 间隙 形成 方法
【主权项】:
1.一种液晶面板的晶胞厚间隙形成方法,其特征在于,包括下列步骤:(A)底面基板及顶面基板定位,将一底面基板与一顶面基板输送至之固定位置,即顶面基板位于底面基板上方;(B)隔离层移动至定位,即至少一隔离层移动对应至步骤A的底面基板与顶面基板之间位置,即位于底面基板上方及顶面基板下方间位置,隔离层内设有数个隔离柱与空洞;(C)隔离层粘合至底面基板,即将步骤B的隔离层下方粘合至底面基板顶端;(D)注入液晶于隔离层之空洞中,将步骤c完成粘合底面基层之隔离层,供液晶注入该步骤A的隔离层的空洞中;(E)粘合隔离层与顶面基板,即藉由步骤D完成液晶注入步骤的隔离层顶端的上端粘合至步骤A的顶面基板下方,使该底面基板、隔离层与顶面基板结合为一体;(F)用紫外光设备照射加热,即将步骤E完成底面基板、隔离层与顶面基板组合一体的结构,通过紫外光设备进行照射加热,使隔离层与底面基板、顶面基板间稳固结合;(G)裁切成型,即将步骤F完成紫外光照射的底面基板、隔离层与顶面基板组合一体的结构中的隔离层进行切割,形成一厚晶胞间隙的液晶面板产品。
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