[实用新型]基片架镀膜装置无效
| 申请号： | 200620017974.1 | 申请日： | 2006-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN200981891Y | 公开（公告）日： | 2007-11-28 |
| 发明（设计）人： | 许生;庄炳河 | 申请（专利权）人： | 深圳豪威真空光电子股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 广东国晖律师事务所 | 代理人： | 徐文涛 |
| 地址： | 518000广东省深圳市南*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种基片架镀膜装置，是一种用于磁控溅射镀膜生产线上的基片架镀膜装置。包括基片架、至少一个基片工作室和用于在所述基片工作室内传动所述基片架的工作室传动机构，其中，基片架镀膜装置进一步包括用于连接至少一个基片工作室的主旋转真空室，主旋转真空室内设置用于传动基片架的平移机构以及用于以预定角度旋转平移机构的旋转机构，以便将基片架传送到所需要的工作室。该装置提高了镀膜产品的质量，可实现复杂工艺，使生产线体积更小、加工工艺更灵活，多导轨的设计保证了生产线的生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 基片架 镀膜 装置 | ||
【主权项】：
权利要求书1.一种基片架镀膜装置，包括基片架、至少一个基片工作室和用于在所述基片工作室内传动所述基片架的工作室传动机构，其特征在于：所述基片架镀膜装置进一步包括用于连接所述至少一个基片工作室的主旋转真空室(1)，所述主旋转真空室(1)内设置用于传动所述基片架的平移机构以及用于以预定角度旋转所述平移机构的旋转机构(14)，以便将所述基片架传送到所需要的工作室。
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