[实用新型]移动磁极式扫描溅射源无效
| 申请号： | 200620017975.6 | 申请日： | 2006-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN201006891Y | 公开（公告）日： | 2008-01-16 |
| 发明（设计）人： | 许生;徐升东;庄炳河 | 申请（专利权）人： | 深圳豪威真空光电子股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 广东国晖律师事务所 | 代理人： | 徐文涛 |
| 地址： | 518036广东省深圳市南*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种移动磁极式扫描溅射源，该溅射源包括：溅射源安装座；设置在溅射源安装座上的用于承托靶材的靶材承托板；设置在靶材承托板与靶材相对一侧并用于在靶材表面产生水平磁场的磁极装置以及设置在溅射源安装座上的传动装置，传动装置传动磁极装置在与靶材平行的平面内移动。通过采用上述结构，使基片载体(基片架)静止，通过往复平稳移动磁极使刻蚀轨迹在大幅面靶材上移动以达到扫描刻蚀的作用。最终实现对基板的均匀沉积制得优良的薄膜产品。 | ||
| 搜索关键词： | 移动 磁极 扫描 溅射 | ||
【主权项】：
1.一种移动磁极式扫描溅射源，包括：溅射源安装座；设置在所述溅射源安装座上的用于承托靶材的靶材承托板；设置在所述靶材承托板与所述靶材相对一侧并用于在所述靶材表面产生水平磁场的磁极装置以及设置在所述溅射源安装座上的传动装置，其特征在于：所述传动装置传动所述磁极装置在与所述靶材平行的平面内移动。
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