[实用新型]改进的半导体机台无效

专利信息
申请号: 200620132708.3 申请日: 2006-08-25
公开(公告)号: CN200981890Y 公开(公告)日: 2007-11-28
发明(设计)人: 梁金堆;林俊良 申请(专利权)人: 联萌科技股份有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C23C14/54;H01L21/00;H01L21/203;H01L21/283;H01L21/31;H01L21/3205
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 谢丽娜;陈肖梅
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种适用于晶圆制程,具有防止残留钯材颗粒污染以及提高清洁效率的改进的半导体机台。此半导体机台包括一制程室、一挡板、一晶圆载盘、以及一承载装置。其中挡板设置于制程室内并具有一抵接部;晶圆载盘设置于制程室内,该盘缘与该抵接部为一可相互抵接的对应结构;而承载装置具有晶圆载盘连接的一顶端。此半导体机台利用挡板将残留钯材颗粒加以吸附与阻隔,达到防止残留钯材颗粒污染晶圆制程的目的、以及提升半导体机台内晶圆制程的效率。
搜索关键词: 改进 半导体 机台
【主权项】:
权利要求书1.一种改进的半导体机台,其中包括一制程室、一挡板、一晶圆载盘、以及一承载装置,其特征是,所述的挡板,设置于该制程室内,该挡板具有一抵接部;所述的晶圆载盘,设置于该制程室内,该晶圆载盘具有一盘缘,该盘缘与该抵接部为一可相互抵接的对应结构;以及所述的承载装置,设置于该制程室内,该承载装置具有一顶端,该顶端连接于该晶圆载盘。
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