[实用新型]低压降高取光LED电极无效
申请号: | 200620158556.4 | 申请日: | 2006-11-24 |
公开(公告)号: | CN200983371Y | 公开(公告)日: | 2007-11-28 |
发明(设计)人: | 沈光地;徐晨;朱彦旭;刘莹;韩金茹;邹德恕 | 申请(专利权)人: | 北京工业大学 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
代理公司: | 北京思海天达知识产权代理有限公司 | 代理人: | 沈波 |
地址: | 100022*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型属于光电子器件制造技术领域,具体涉及半导体发光二极管的电极结构。低压降高取光LED电极,其结构包括:半导体基底(1),欧姆接触层(2),透明电流扩展层(3),压焊电极(4);欧姆接触层与半导体基底接触,覆盖在半导体基底的上面;透明电流扩展层覆盖在欧姆接触层上面;压焊电极位于透明电流扩展层(3)上面;欧姆接触层(2)为一种带有通孔(5)的导电膜(6);透明电流扩展层(3)通过欧姆接触层(2)的通孔(5)与半导体基底(1)接触。本实用新型解决了传统金属欧姆接触层吸光大的问题,增加了电极的取光效率;降低了传统透明导电氧化物接触层电极驱动电压,获得了低的LED驱动电压。 | ||
搜索关键词: | 低压 降高取光 led 电极 | ||
【主权项】:
权利要求书1、低压降高取光LED电极,其结构至少包括:半导体基底(1)、欧姆接触层(2)、透明电流扩展层(3)、压焊电极(4);欧姆接触层(2)与半导体基底(1)接触,覆盖在半导体基底(1)的上面;透明电流扩展层(3)覆盖在欧姆接触层(2)上面,压焊电极(4)位于透明电流扩展层(3)的上方;其特征在于:欧姆接触层(2)为一种带有的通孔(5)的导电膜(6);透明电流扩展层(3)通过欧姆接触层(2)的通孔(5)与半导体基底(1)接触。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京工业大学,未经北京工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200620158556.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:草地切根机刀架避让装置
- 下一篇:热风炉