[发明专利]用于化学机械抛光的二氧化铈粉末的制备方法及使用该粉末制备化学机械抛光浆料的方法有效
| 申请号： | 200680001015.3 | 申请日： | 2006-10-12 |
| 公开（公告）号： | CN101039876A | 公开（公告）日： | 2007-09-19 |
| 发明（设计）人： | 吴明焕;鲁埈硕;金长烈;金钟泌;曹昇范;高敏镇 | 申请（专利权）人： | LG化学株式会社 |
| 主分类号： | C01F17/00 | 分类号： | C01F17/00 |
| 代理公司： | 北京金信立方知识产权代理有限公司 | 代理人： | 朱梅;徐志明 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及用于CMP浆料的二氧化铈粉末的制备方法以及使用该粉末制备CMP浆料的方法，更具体而言，涉及用于CMP浆料的二氧化铈粉末的制备方法以及使用该粉末制备CMP浆料的方法，其中通过制备铈前体，然后分解和煅烧制得的铈前体，而增大所述粉末的比表面积。控制孔分布以增大在抛光膜与抛光材料之间的化学接触面积，从而减少抛光时间同时降低粉末的物理强度，这就显著减少了在抛光膜上的刮痕。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 化学 机械抛光 氧化 粉末 制备 方法 使用 浆料 | ||
【主权项】：
1、一种用于CMP浆料的二氧化铈粉末的制备方法，该方法包括下列步骤：(a)制备铈前体；(b)分解制得的铈前体；以及(c)煅烧分解的铈前体。
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