[发明专利]曝光装置与曝光方法以及微元件的制造方法有效
| 申请号： | 200680001103.3 | 申请日： | 2006-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN101052922A | 公开（公告）日： | 2007-10-10 |
| 发明（设计）人： | 加藤正纪;清水贤二;户口学;渡边智行 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 陈亮 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的是对多个光学单元之间所发生的图样的像的投影位置的偏移进行补正。本发明的解决手段涉及一种曝光装置，其使由具有多个光学单元L1～L13的光学系统所投影的图样的像曝光转印至物体P上。此曝光装置包括一种补正装置，其对由多个光学单元L1～L13投影在此物体P上的多个像之中至少1个像的位置进行补正，以补偿多个光学单元L1～L13的变动。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 以及 元件 制造 | ||
【主权项】：
1.一种曝光装置，其使由具有多个光学单元的光学系统所投影的图样的像曝光转写至物体上，包括：补正装置，其对由多个光学单元投影在此物体上的多个像之中至少1个像的位置进行补正，以补偿多个光学单元的变动。
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