[发明专利]成膜装置、成膜方法以及有机电发光元件的制造方法无效
| 申请号： | 200680001579.7 | 申请日： | 2006-02-22 |
| 公开（公告）号： | CN101090995A | 公开（公告）日： | 2007-12-19 |
| 发明（设计）人： | 片冈达哉;长尾兼次;齐藤谦一 | 申请（专利权）人： | 三井造船株式会社;株式会社日本微拓科技;长州产业株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/04;H01L51/50;H05B33/10 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种成膜装置、成膜方法以及有机电发光(EL)元件的制造方法。成膜装置是包括成膜材料的供应源和形成所述成膜材料的膜的基板的成膜装置，其包括：能够在相对于所述基板的表面进行接近及离开的方向移动而配置在所述基板的表面侧的掩模(36)、能够在相对于所述基板的背面进行接近及离开的方向移动而配置在所述基板的背面侧的磁铁(22)、以及将所述磁铁(22)的移动限制在规定范围内的移动限制装置(24)。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 方法 以及 机电 发光 元件 制造 | ||
【主权项】：
1.一种成膜装置，能够把掩模与基板接合而形成对应于掩模图案的薄膜，其特征在于：利用磁性体形成所述掩模，具有把该掩模与所述基板接合的磁铁，所述磁铁利用放置在对所述掩模的吸附作用所到达的限度位置以内的移动限制装置而进行行程限制。
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