[发明专利]卷绕式等离子CVD装置

摘要

本发明提供一种卷绕式等离子CVD装置，能将反应气体均匀地供给到薄膜的成膜区域、实现膜质的均匀化，在薄膜的成膜过程中也能进行成膜部的自清洗。相对于薄膜的移动方向，在成膜部(25)的上游侧和下游侧配置一对可动辊(33、34)，将薄膜(22)支承在该一对可动辊(33、34)之间，使薄膜(22)在成膜位置大致直线地移动。这样，可将喷淋板(37)与薄膜(22)之间的相向距离保持为一定、实现膜质的均匀化。薄膜(22)被在其背面侧同时移动的金属带(40)加热。可动辊(33、34)能从成膜位置上升到自清洗位置，使薄膜(22)远离喷淋板(37)。用闸门(65)将罩(51)的开口部封闭，防止自清洗气体漏出，可进行成膜过程中的自清洗。

主权项

1.一种卷绕式等离子CVD装置，一边使薄膜在真空室内移动一边通过等离子CVD在该薄膜上进行成膜，其特征在于，具有上游辊和下游辊，该上游辊和下游辊相对于上述薄膜的移动方向分别配置在成膜位置的上游侧和下游侧，使上述薄膜在上述成膜位置大致沿直线移动；在上述成膜位置上，配置着高频电极、相向电极和气体供给机构；上述高频电极与上述薄膜的成膜面相向，并与高频电源连接着；上述相向电极配置在上述薄膜的成膜面的背面侧；上述气体供给机构将原料气体供给到上述薄膜的成膜面。