[发明专利]5－氨基吲哚衍生物

摘要

本发明涉及式(I)化合物及其药用盐，其中R¹、R²、R³、R⁴和m如说明书和权利要求书中定义，还涉及包含这些化合物的药物组合物和它们的制备方法。所述化合物可用于治疗和/或预防与H3受体的调节有关的疾病。

主权项

1.通式I的化合物：其中R¹和R²彼此独立地选自：氢，低级烷基，低级链烯基，低级炔基，环烷基，低级环烷基烷基，低级羟烷基，低级烷氧基烷基，低级烷硫基烷基，低级二烷基氨基烷基，低级二烷基氨基甲酰基烷基，未取代的或被1或2个基团取代的苯基，所述的基团独立地选自低级烷基、低级卤代烷氧基或低级羟烷基，低级苯基烷基，其中苯环可以是未取代的或被1或2个基团取代的，所述的基团独立地选自低级烷基、卤素、低级烷氧基或低级羟烷基，低级杂芳基烷基，其中杂芳基环可以是未取代的或被1或2个基团取代的，所述的基团独立地选自低级烷基、卤素、低级烷氧基或低级羟烷基，以及低级杂环基烷基，其中杂环基环可以是未取代的或被1或2个低级烷基取代的；或R¹和R²与它们连接的氮原子一起形成任选含有另外的选自氧或硫的杂原子的4-、5-、6-或7-元饱和或部分不饱和的杂环，所述的饱和杂环是未取代的或被1、2或3个基团取代的，所述的基团独立地选自：低级烷基，卤素，低级卤代烷基，羟基，低级烷氧基，氧代，苯基，苄基，吡啶基和氨基甲酰基，或者与苯环稠合，所述的苯环是未取代的或被1、2或3个基团取代的，所述的基团独立地选自：低级烷基，低级烷氧基，卤素和低级卤代烷基；R³为氢或低级烷基；R⁴选自：低级烷基，环烷基和低级环烷基烷基；m为0，1或2；及其药用盐。