[发明专利]曝光方法、形成凸起和凹陷图案的方法以及制造光学元件的方法无效
| 申请号： | 200680002960.5 | 申请日： | 2006-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN101133365A | 公开（公告）日： | 2008-02-27 |
| 发明（设计）人： | 保土沢善仁;江上力 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 | 代理人： | 赵郁军 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种通过使用低成本、稳定的固态激光器或气体激光器作为曝光光源，以及通过使用g－行或i－行用的光致抗蚀剂来简单地形成具有亚微米大小的行宽的曝光图案。通过部分控制光敏材料的反应时间常数、以及用激光束照射形成在基板W表面上的具有预定厚度的光敏材料层的预定部分进行曝光，同时控制被控制的激光束的光束强度和扫描速度。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 方法 形成 凸起 凹陷 图案 以及 制造 光学 元件 | ||
【主权项】：
1.一种适合于制造具有凸起和凹陷图案的元件的曝光方法，包括：在基板的表面上形成具有预定厚度的光敏材料的层上照射激光束，同时控制激光束的光束强度和光束扫描速度，其中通过部分控制光敏材料的反应时间常数，同时发射激光光束进行曝光。
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