[发明专利]两层光学记录介质有效
| 申请号： | 200680003004.9 | 申请日： | 2006-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN101107655A | 公开（公告）日： | 2008-01-16 |
| 发明（设计）人： | 真贝胜;篠塚道明;关口洋义;加藤将纪 | 申请（专利权）人： | 株式会社理光 |
| 主分类号： | G11B7/258 | 分类号： | G11B7/258;G11B7/243;G11B7/24;G11B7/257;G11B7/254;B41M5/26 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 王冉;王景刚 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种两层光学记录介质，包括从光束照射侧按该顺序形成的第一基板、第一信息层、第二信息层和第二基板，其中第一信息层设置有从光束照射侧按该顺序形成的第一下介电层、第一记录层、第一上介电层、第一反射层、和无机介电层；第二信息层设置有从光束照射侧按该顺序形成的第二下介电层、第二记录层、第二上介电层、和第二反射层；且第一反射层由99.8质量％到95.0质量％的含量的Cu和由Ta、Nb、Zr、Ni、Cr、Ge、Au和Mo组成的组中选择的一种或更多的金属制成。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 记录 介质 | ||
【主权项】：
1.一种两层光学记录介质，包括：由光束照射侧观察按顺序形成的第一基板；第一信息层；第二信息层；和第二基板，其中第一信息层设置有从光束照射侧按该顺序形成的第一下介电层、第一记录层、第一上介电层、第一反射层、和无机介电层；第二信息层设置有从光束照射侧按该顺序形成的第二下介电层、第二记录层、第二上介电层、和第二反射层；且第一反射层包含99.8质量％到95.0质量％的含量的Cu和由Ta、Nb、Zr、Ni、Cr、Ge、Au和Mo组成的组中选择的一种或更多的金属且具有4nm到12nm的厚度。
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