[发明专利]用于X射线投影的校正或扩展的设备和方法无效

专利信息
申请号: 200680003751.2 申请日: 2006-01-31
公开(公告)号: CN101111758A 公开(公告)日: 2008-01-23
发明(设计)人: M·伯特拉姆;J·韦格特 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: G01N23/04 分类号: G01N23/04;G06T11/00;A61B6/03
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 龚海军;刘红
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 发明涉及一种用于为了产生对象的重建图像而对所述对象的X射线投影的数据组进行迭代散射校正的设备。特别用于对由X射线投影的散射或截断引起的伪像进行的校正,该设备要求较少的计算耗费从而允许实时校正,该设备建议包括:模型估计单元(41),用于通过迭代优化前向投影对于相应X射线投影的偏差来估计所述对象的对象模型的模型参数,所述的前向投影通过使用所述对象模型和用于所述X射线投影的几何结构参数来计算,散射估计单元(42),用于通过使用所述对象模型来估计在所述X射线投影中存在的散射量,以及校正单元(43),用于通过从所述X射线投影中减去估计的散射量来校正所述X射线投影,以使用所述校正的X射线投影来确定优化的对象模型,所述优化的对象模型用于所述散射校正的另一个迭代中,所述散射校正被迭代执行直到达到了预定的停止标准。进一步建议了用于扩展已截断投影的相应设备和重建设备。
搜索关键词: 用于 射线 投影 校正 扩展 设备 方法
【主权项】:
1.一种用于为了产生对象(1)的重建图像而对所述对象的X射线投影(10)的数据组进行迭代散射校正的设备,包括:模型估计单元(41),用于通过迭代优化前向投影对于相应X射线投影的偏差来估计用于所述对象的对象模型的模型参数,所述前向投影通过使用所述对象模型和对于所述X射线投影的几何结构参数来计算,散射估计单元(42),用于通过使用所述对象模型来估计在所述X射线投影中存在的散射量,以及校正单元(43),用于通过从所述X射线投影中减去估计的散射量来校正所述X射线投影,以使用所述校正的X射线投影来确定优化的对象模型,所述优化的对象模型用于所述散射校正的另一个迭代中,所述散射校正被迭代执行直到达到了预定的停止标准。
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