[发明专利]成膜装置，匹配器以及阻抗控制方法

摘要

本发明用于实现避免在紧接等离子体着火后发生的以负荷阻抗的急剧变化为起因的等离子的消失的阻抗控制。本发明的成膜装置包括：高频电源、匹配电路、经由该匹配电路接收电力，通过该电力在容纳成膜对象的树脂瓶的成膜室内部产生等离子体的外部电极、以及用于控制匹配电路的阻抗的控制单元。控制单元在高频电源开始向外部电极提供电力的第1时刻t₁起的第1期间内将匹配电路的阻抗保持一定，在第1期间结束的第2时刻t₂起开始的第2期间内，响应来自外部电极的反射波电力而控制匹配电路的阻抗。

主权项

1.一种成膜装置，包括：电源；匹配电路；电极，经由所述匹配电路从所述电源接收电力，通过所述电力在容纳成膜对象的成膜室的内部产生等离子体；以及控制单元，控制所述匹配电路的阻抗，所述控制单元，在从所述电源向所述电极开始提供所述电力的第1时刻开始的第1期间内将所述匹配电路的阻抗保持一定，在从所述第1期间结束的第2时刻开始的第2期间内，响应来自所述电极的反射波电力而控制所述匹配电路的阻抗。