[发明专利]氧化锆增韧氧化铝成分及其在离子和电子光学系统中使用有效
| 申请号： | 200680004140.X | 申请日： | 2006-02-08 |
| 公开（公告）号： | CN101120431A | 公开（公告）日： | 2008-02-06 |
| 发明（设计）人： | 罗萨里奥·曼尼诺;朱塞普·科波拉 | 申请（专利权）人： | 珀金埃尔默LAS公司 |
| 主分类号： | H01J49/04 | 分类号： | H01J49/04;C04B35/119 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 马高平;曲莹 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供一种离子光学系统，其包括用于电离一个或多个化合物的离子发生器，该离子发生器包括多个组件；用于分离该一个或多个化合物的离子的质量分离器，该质量分离器包括多个组件；以及用于识别该一个或多个化合物的检测器，该检测器包括多个组件。所述离子发生器、质量分离器和检测器中的至少一个中的多个组件中的至少一个组件包括氧化锆和氧化铝成分。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化锆 氧化铝 成分 及其 离子 电子光学 系统 使用 | ||
【主权项】：
1.一种离子光学系统，其包括：用于电离一个或多个化合物的离子发生器，所述离子发生器包括多个组件；用于分离所述一个或多个化合物的离子的质量分离器，所述质量分离器包括多个组件；以及用于识别所述一个或多个化合物的检测器，所述检测器包括多个组件，其中，至少所述离子发生器、所述质量分离器和所述检测器之一中的多个组件中的至少一个组件包括氧化锆和氧化铝成分。
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