[发明专利]制备羟基氧化铁的方法和含有羟基氧化铁的吸附材料无效

专利信息
申请号: 200680004919.1 申请日: 2006-02-16
公开(公告)号: CN101119934A 公开(公告)日: 2008-02-06
发明(设计)人: 前一广;牧泰辅;山本笃志 申请(专利权)人: 独立行政法人科学技术振兴机构;财团法人滋贺县产业支援中心;国立大学法人京都大学
主分类号: C01G49/02 分类号: C01G49/02;B01D53/46;B01J20/28;B01J20/30;B01J20/06;C02F1/28
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 蔡胜有;刘继富
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种有利地制备羟基氧化铁的方法和包含以该方法制得的羟基氧化铁为主要成分的吸附材料,所述羟基氧化铁表现出非常好的吸附有害物质的能力,所述有害物质例如为工业废水、废气等中所含有的磷成分和内分泌干扰化学物质。具体地,本发明提供一种制备羟基氧化铁的方法以及包含通过所述方法制备的羟基氧化铁作为主要成分的吸附材料,所述方法的特征在于包括下述步骤:(a)将碱加入到含铁离子的水溶液中,以使所得混合物的pH值为9或更低,从而形成含羟基氧化铁的沉淀;(b)在100℃以下的温度下干燥所述沉淀,由此制备羟基氧化铁;(c)将所得羟基氧化铁与水接触;和(d)在100~280℃的温度下,在具有80%以上惰性气体浓度的气氛中对所得羟基氧化铁进行热处理。
搜索关键词: 制备 羟基 氧化铁 方法 含有 吸附 材料
【主权项】:
1.一种制备羟基氧化铁的方法,包括步骤:(I-a)将碱加入到含铁离子的水溶液中,并将其pH值调节到9以下,以获得含羟基氧化铁的沉淀;(I-b)在100℃以下的温度下干燥所得沉淀,得到羟基氧化铁;(I-c)将所得羟基氧化铁与水接触;和(I-d)在具有80%以上惰性气体浓度的气氛中,在100~280℃的温度下,加热所得羟基氧化铁。
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