[发明专利]新的噻吩化合物以及由其制造咖啡呋喃或其类似物的方法无效
申请号: | 200680005671.0 | 申请日: | 2006-02-22 |
公开(公告)号: | CN101128450A | 公开(公告)日: | 2008-02-20 |
发明(设计)人: | 胜村成雄;李雁武;岩渕久克;大西正展;村上裕介 | 申请(专利权)人: | 三荣源有限公司 |
主分类号: | C07D333/16 | 分类号: | C07D333/16;A61K8/49;A61Q13/00;A23L1/226;C07D333/22;C07D495/04;C11B9/00 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 龙淳;彭益群 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供了一种新的噻吩化合物作为合成中间体,其可用于有效地制造咖啡呋喃或其类似物。本发还也提供了使用新的噻吩化合物作为合成中间体原料制造咖啡呋喃或其类似物的方法。在式(1)所示的新的噻吩化合物中,其中R1是氢原子或C1-C4低级烷基;R2是氢原子或醇保护基团;R3是氢原子、-COR4或-C(OH)R5(其中R4和R5各自均代表C1-C4低级烷基);如果R2和R3是氢原子,则R1不是氢原子、甲基或正丙基中的任何一个;式(2)所示的噻吩化合物在过渡金属催化剂的存在下被还原和环化,产生如下所示的咖啡呋喃或咖啡呋喃类似物(3a),其中R1是氢原子或C1-C4低级烷基,R4是C1-C4低级烷基。 | ||
搜索关键词: | 噻吩 化合物 以及 制造 咖啡 呋喃 类似物 方法 | ||
【主权项】:
1.一种式(1)所示的噻吩化合物:
其中R1是氢原子或C1-C4低级烷基;R2是氢原子或醇保护基团;R3是氢原子、-COR4或-C(OH)R5(其中R4和R5各自均代表C1-C4低级烷基);如果R2和R3是氢原子,则R1不是氢原子、甲基或正丙基中的任何一个。
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