[发明专利]用于监测微结构蚀刻工艺的改进的方法和装置无效
| 申请号： | 200680005811.4 | 申请日： | 2006-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN101128910A | 公开（公告）日： | 2008-02-20 |
| 发明（设计）人： | A·奥哈拉;M·利维;G·普林格尔 | 申请（专利权）人： | 点35微结构有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/32;C23F4/02 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 王英 |
| 地址： | 英国利*** | 国省代码： | 英国;GB |
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| 摘要： | 描述一种用于制造位于蚀刻腔体(3)内的微结构(2)(特别是MEMS)的蚀刻监测装置(1)及其相关方法。该装置(1)及其相关方法通过将其中定位了微结构(2)的腔体(3)内的温度设定为起始温度，并且将该腔体(3)内的蚀刻气体分压保持在恒定值来操作。因此，该腔体(3)内的微结构(2)的表面温度主要由蚀刻速率来确定。从而，通过使用温度计(8)监测蚀刻表面温度的变化，提供用于监测蚀刻工艺的直接诊断。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 监测 微结构 蚀刻 工艺 改进 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种适用于蚀刻腔体(3)的蚀刻监测装置(1)，所述蚀刻监测装置(1)包括用于控制蚀刻气体的分压的压力控制器(14)，用于设定所述蚀刻腔体(3)的起始温度的温度控制器(13)和用于监测将要在所述腔体(3)内进行蚀刻的微结构(2)的表面温度的温度计(8)。
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