[发明专利]磁记录介质及其制造方法以及磁记录和再现装置无效
| 申请号： | 200680007231.9 | 申请日： | 2006-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN101138024A | 公开（公告）日： | 2008-03-05 |
| 发明（设计）人： | 大泽弘 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/738 | 分类号： | G11B5/738;G11B5/65 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 杨晓光;李峥 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种磁记录介质，该磁记录介质形成在铝基底(Al－Mg合金)上，该铝基底具有纹理条纹以及NiP镀层，具有沿周向的磁各向异性，以及具有高顽磁性、高角形比以及令人满意的电磁转换特性，本发明还提供了其制造方法以及一种磁记录和再现装置。该磁记录介质至少包括取向控制层、非磁性内涂层、磁性层以及保护层，它们按照上述顺序层叠在铝基底上。该取向控制层包含选自于Co、Ni和Fe中的一种或多种成分以及选自于W、Mo、Ta和Nb中的一种或多种成分。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 及其 制造 方法 以及 再现 装置 | ||
【主权项】：
1.一种磁记录介质，至少包括：取向控制层、非磁性内涂层、磁性层以及保护层，它们按照上述顺序层叠在铝基底上，其中该铝基底的表面上具有条纹并镀敷有NiP或NiP合金，其中所述取向控制层包含选自于Co、Ni和Fe中的一种或多种成分以及选自于W、Mo、Ta和Nb中的一种或多种成分。
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