[发明专利]非晶质透明导电膜、靶和非晶质透明导电膜的制造方法

摘要

本发明涉及非晶质透明导电膜、靶和非晶质透明导电膜的制造方法。近年来，各种显示装置已被活跃地引入OA设备中，结果显示装置均具有用透明导电膜将显示元件夹入的结构。作为该透明导电膜，ITO膜现在已占了主流，但ITO膜由于在蚀刻中使用强酸，具有对配线产生损害的问题，进行了在低温下使ITO膜进行非晶成膜从而使其可以在弱酸下蚀刻的尝试，但存在在非晶状态下电阻增高等问题。本发明通过使用以下的非晶质透明导电膜作为非晶质透明导电膜等，解决了上述问题：在采用X射线散射测定求出的矢径分布函数(RDF)中，将原子间距离为0.30nm～0.36nm间的(RDF)的最大值记为A，将原子间距离为0.36nm～0.42nm间的(RDF)的最大值记为B时，满足A＞B的关系。

主权项

1.一种非晶质透明导电膜，是以氧6配位的金属氧化物作为主要成分的非晶质透明导电膜，其中，在所述非晶质透明导电膜的采用X射线散射测定求出的矢径分布函数(RDF)中，当将原子间距离为0.30nm～0.36nm间的RDF的最大值记为A，将原子间距离为0.36nm～0.42nm间的RDF的最大值记为B时，满足A/B＞1的关系。