[发明专利]电路形成基板的制造方法无效
申请号: | 200680008163.8 | 申请日: | 2006-03-16 |
公开(公告)号: | CN101142863A | 公开(公告)日: | 2008-03-12 |
发明(设计)人: | 西井利浩 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
主分类号: | H05K3/46 | 分类号: | H05K3/46 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 汪惠民 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 即便增大电路形成基板的工件尺寸,本发明也可以提供稳定且高品质的电路形成基板。在叠层工序中,相对于第1金属箔(6L)并排配设作为B阶段基板材料的胶片(2L1)、(2L2),并叠层在第1金属箔(6L)上。在基板材料(2L1)、(2L2)上叠层C阶段基板材料(1)。在基板材料(1)上叠层两片以上的作为B阶段基板材料的胶片(2U1)、(2U2),再在这些胶片(2U1)、(2U2)上叠层第2金属箔(6U)。 | ||
搜索关键词: | 电路 形成 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种电路形成基板的制造方法,其特征在于,包括叠层工序,是将(a)金属箔、或贴附在支撑体上的金属箔、或者贴附在支撑体上且形成电路图案的金属箔(b)B阶段基板材料(c)具备电路、金属箔、层间连接构件的B阶段基板材料(d)具备电路或金属箔的C阶段基板材料、或者具备电路或金属箔以及层间连接构件的C阶段基板材料中的所述B阶段基板材料、以及两种以上所述金属箔或所述基板材料作为叠层物进行叠层,并且,在所述叠层工序中,相对于所述金属箔并排设置两片以上所述基板材料。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于松下电器产业株式会社,未经松下电器产业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200680008163.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:微量营养素肥料用螯合剂
- 下一篇:具有第一及第二接触件的电触点装置