[发明专利]电路形成基板的制造方法无效

专利信息
申请号: 200680008163.8 申请日: 2006-03-16
公开(公告)号: CN101142863A 公开(公告)日: 2008-03-12
发明(设计)人: 西井利浩 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: H05K3/46 分类号: H05K3/46
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 汪惠民
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 即便增大电路形成基板的工件尺寸,本发明也可以提供稳定且高品质的电路形成基板。在叠层工序中,相对于第1金属箔(6L)并排配设作为B阶段基板材料的胶片(2L1)、(2L2),并叠层在第1金属箔(6L)上。在基板材料(2L1)、(2L2)上叠层C阶段基板材料(1)。在基板材料(1)上叠层两片以上的作为B阶段基板材料的胶片(2U1)、(2U2),再在这些胶片(2U1)、(2U2)上叠层第2金属箔(6U)。
搜索关键词: 电路 形成 制造 方法
【主权项】:
1.一种电路形成基板的制造方法,其特征在于,包括叠层工序,是将(a)金属箔、或贴附在支撑体上的金属箔、或者贴附在支撑体上且形成电路图案的金属箔(b)B阶段基板材料(c)具备电路、金属箔、层间连接构件的B阶段基板材料(d)具备电路或金属箔的C阶段基板材料、或者具备电路或金属箔以及层间连接构件的C阶段基板材料中的所述B阶段基板材料、以及两种以上所述金属箔或所述基板材料作为叠层物进行叠层,并且,在所述叠层工序中,相对于所述金属箔并排设置两片以上所述基板材料。
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