[发明专利]用于连续进行光化学过程的，带有薄光学附层厚度、窄驻留时间分布和高流量的装置、方法和应用

摘要

本发明涉及一种用于连续进行光化学过程的装置，借助它，薄光学附层厚度的辐射在窄的驻留时间分布和高流速的情况下成为可能。一种用于进行光化学反应的方法以及用于进行光化学反应的装置的应用同样被提出权利要求。反应区和遮盖件由多个彼此推入其中的、同轴的、圆锥形的主体和管件组成，其中由该两主体的间距所限定的附层厚度通过这两个元件的位移可以沿共同的旋转轴线调节。如第二实施例所推荐的，安装至少一个预张紧的支撑元件，以限定附层厚度。

主权项

1.一种用于进行化学反应的装置，包括带有微型通道的、可辐射的反应区，在微型通道中反应介质的附层厚度沿可能的辐射方向保持稳定，独立于流体的压力，其特征在于，反应区通过透明的材料遮盖，其通过至少一个支撑元件预张紧，且/或反应区和遮盖件包括多个彼此推入的、同轴的、圆锥形的主体和管件，其中通过所述两个主体的间距限定的附层厚度由沿公共旋转轴线移位两个元件来调节。