[发明专利]高带隙亚芳基聚合物无效

专利信息
申请号: 200680009357.X 申请日: 2006-02-22
公开(公告)号: CN101146843A 公开(公告)日: 2008-03-19
发明(设计)人: M·L·马洛克;V·J·李;F·J·莫塔梅迪 申请(专利权)人: 萨美甚株式会社
主分类号: C08G61/10 分类号: C08G61/10;H01B1/12;H01L51/30
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 陈季壮
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供了具有空间扭转亚芳基重复单元的发光聚合物,它们尤其适合用作电致发光聚合物。提供了合成该空间扭转聚亚芳基所必需的单体,还提供了使用这些聚合物的电致发光装置。
搜索关键词: 高带隙亚芳基 聚合物
【主权项】:
1.聚合物组合物,其包含一类选自以下单元的重复单元:其中Alk是任选氟取代的烷基,t-Alk是具有与芳基重复单元连接的叔碳α的任选氟取代的烷基,q-Alk是具有与芳基重复单元连接的季碳α的任选氟取代的烷基,Aryl是任选氟取代的芳基或杂芳基,R20是独立地选自烷基、芳基、杂烷基、杂芳基、氟代烷基、氟代芳基、烷氧基和芳氧基的一个或多个任选的基团,R21中至少一个不是氢,和R21选自氢、烷基、芳基、杂烷基、杂芳基、氟代烷基、氟代芳基、烷氧基和芳氧基,其中R22和R23各自独立地选自烷基、取代的烷基、芳基、取代的芳基、杂芳基和取代的杂芳基。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于萨美甚株式会社,未经萨美甚株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200680009357.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top