[发明专利]聚酰亚胺薄膜的制备方法有效
| 申请号： | 200680011604.X | 申请日： | 2006-04-10 |
| 公开（公告）号： | CN101160202A | 公开（公告）日： | 2008-04-09 |
| 发明（设计）人： | 大石实雄;牧野嶋高史;毛户耕;木原秀太 | 申请（专利权）人： | 三菱瓦斯化学株式会社 |
| 主分类号： | B29C55/12 | 分类号： | B29C55/12;C08G73/10;C08J5/18 |
| 代理公司： | 北京润平知识产权代理有限公司 | 代理人： | 周建秋;王凤桐 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 由具有下述式(1)表示的重复单元的聚酰亚胺形成的聚酰亚胺薄膜的制备方法，其通过将有机溶剂含量为0.5重量％以上且不足30重量％的未延伸聚酰亚胺薄膜在150℃－380℃下延伸1.2－4.0倍，可得到无色透明的、耐热性良好且尺寸变化小的聚酰亚胺薄膜。式中，R是从环己烷衍生的四价基团，φ是总碳原子数为2～39的二价的由脂肪族、脂环族、芳香族或者它们的组合所形成的基团，作为结合基团也可以具有选自由－O－、－SO2－、－CO－、－CH2－、－C(CH3)2－、－OSi(CH3)2－、－C2H4O－以及－S－所组成的组中的一种以上。 | ||
| 搜索关键词： | 聚酰亚胺 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种聚酰亚胺薄膜的制备方法，该制备方法是由具有下述式(1)所示的重复单元的聚酰亚胺所形成的聚酰亚胺薄膜的制备方法，其特征是，将有机溶剂含量为0.5重量％以上且不足30重量％的未延伸聚酰亚胺薄膜在150℃-380℃的温度下延伸1.2-4.0倍，![]()
式(1)中，R是从环己烷衍生的四价基团，φ是总碳原子数为2～39的二价的由脂肪族、脂环族、芳香族或者它们的组合所形成的基团，作为结合基团也可以具有选自由-O-、-SO2-、-CO-、-CH2-、-C(CH3)2-、-OSi(CH3)2-、-C2H4O-以及-S-所组成的组中的一种以上。
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