[发明专利]二氧化硅系被膜形成用组合物有效

专利信息
申请号: 200680011763.X 申请日: 2006-03-16
公开(公告)号: CN101155887A 公开(公告)日: 2008-04-02
发明(设计)人: 饭田启之;高滨昌 申请(专利权)人: 东京应化工业株式会社
主分类号: C09D183/04 分类号: C09D183/04;C09D7/12;C09D171/02;H01L21/312
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 朱丹
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的二氧化硅系被膜形成用组合物,含有硅氧烷聚合物和碱金属化合物。作为该硅氧烷聚合物,优选具有水解性基团的硅烷化合物的水解缩合物。作为上述碱金属化合物的碱金属,可使用钠、锂、钾、铷和铯等。另外,作为上述碱金属化合物,可列举上述碱金属的硝酸盐、硫酸盐、碳酸盐、氧化物、氯化物、溴化物、氟化物、碘化物、氢氧化物的等。该二氧化硅系被膜形成用组合物也可以含有空穴形成用材料。作为该空穴形成用材料,可使用选自聚亚烷基二醇及其末端烷基化物的一种以上。
搜索关键词: 二氧化硅 系被膜 形成 组合
【主权项】:
1.一种二氧化硅系被膜形成用组合物,其中,含有硅氧烷聚合物和碱金属化合物。
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