[发明专利]背接触式太阳能电池及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200680012047.3 申请日: 2006-04-11
公开(公告)号: CN101160668A 公开(公告)日: 2008-04-09
发明(设计)人: 彼得·恩格尔哈特;安德烈亚斯·泰普;赖纳·格里施克;罗伯特·韦德 申请(专利权)人: 太阳能研究所股份有限公司
主分类号: H01L31/0224 分类号: H01L31/0224;H01L31/18
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 蔡胜有;刘继富
地址: 德国埃*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及太阳能电池(1)及其制造方法,所述太阳能电池(1)包含在其背面上的发射极接触(43)和基极接触(45),这两种接触(43,45)通过已经去除金属涂层的侧面(5)而彼此相互电隔离。电池背面(3)的发射区(4)通过沟道与电池正面(8)的发射极(9)连接。电池背面(3)的发射区(4)和沟道(7)由激光形成。侧壁的金属涂层通过选择性蚀刻而去除,所述金属涂层仅在蚀刻阻挡层(11)不足的侧面(5)的区域中被去除。
搜索关键词: 接触 太阳能电池 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种制造太阳能电池(1、12、26)的方法,包括以下步骤:-提供具有衬底正面(8、17)和衬底背面(3;14;28)的半导体衬底(2;13;27);-在所述衬底背面(3;14;28)上形成第一(4)和第二区域(6;20;32),其中,在每种情况下,所述各区域基本上相对于所述衬底正面(8;17)平行;和形成将所述第一区域(4;18)与所述第二区域(6;20;32)隔离的倾斜侧面(5;19;31);-至少在所述衬底背面(3;14;28)的部分区域上沉积金属层(10;24;37);-至少在第一金属层(10;24;37)的部分区域上沉积蚀刻阻挡层(11;25;38),其中,所述蚀刻阻挡层(11;25;38)基本能够抵抗蚀刻所述金属层的蚀刻剂;-蚀刻至少部分区域中的所述金属层(10;24;37),其中,所述倾斜侧面(5;19;31)上的所述金属层(10;24;37)基本上被去除。
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