[发明专利]具有相对衬底倾斜的喷洒头的液体浸没光刻系统有效
| 申请号： | 200680013261.0 | 申请日： | 2006-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN101164015A | 公开（公告）日： | 2008-04-16 |
| 发明（设计）人： | 亚历山德·克麦里切克;亨利·西韦尔;路易斯·约翰·马克雅;埃里克·伦洛夫·卢布斯卓;尼古拉斯·腾凯特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种液体浸没式光刻系统包括投影光学系统和喷洒头。所述投影光学系统被构造用于以图案化的辐射束对衬底进行曝光。所述喷洒头包括第一喷嘴和第二喷嘴，所述第一喷嘴和第二喷嘴被设置成在曝光操作过程中与衬底表面相隔不同的距离。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 相对 衬底 倾斜 喷洒 液体 浸没 光刻 系统 | ||
【主权项】：
1.一种浸没式光刻系统，包括：将图案化的辐射束引导到衬底上的投影光学系统；以及将液流在投影光学系统和衬底之间传送的喷洒头，其中，所述喷洒头包括第一喷嘴和第二喷嘴，所述第一喷嘴和所述第二喷嘴所处位置分别与衬底相隔不同的距离。
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