[发明专利]在半导体装置制造中定位次分辨率辅助特征无效
| 申请号： | 200680013587.3 | 申请日： | 2006-02-24 |
| 公开（公告）号： | CN101164070A | 公开（公告）日： | 2008-04-16 |
| 发明（设计）人： | 张国鸿;肖恩·奥布赖恩 | 申请（专利权）人： | 德州仪器公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50;G03F1/00;G06F19/00;G21K5/00 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 刘国伟 |
| 地址： | 美国得*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种操作计算系统(30)以确定标度线数据的方法。所述标度线数据用于完成用于将图像投射到半导体晶片的标度线(20)。所述方法接收包括所需电路层布局的电路设计层数据(341)，且所述布局包含多个线路。所述方法还在所述多个线路中标识第一线路部分以用作第一电路功能且标识第二线路部分以用作不同于所述第一电路功能的第二电路功能。所述第一线路部分平行且毗邻于所述第二线路部分。所述方法还将所述标度线数据提供于输出数据文件(343)中以用于形成所述标度线上的特征。所述方法还指示用于在所述标度线上形成第一及第二主特征以及至少一个辅助特征的参数，所述辅助特征具有在所述第一主特征与所述第二主特征之间的区域，其中在使用所述标度线以用于将所述图像投射到所述半导体晶片中，与所述第二主特征相比，所述区域将给予所述第一主特征更大的辅助。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 装置 制造 位次 分辨率 辅助 特征 | ||
【主权项】：
1.一种操作计算系统以确定标度线数据的方法，所述标度线数据用于完成标度线以用于将图像投射到半导体晶片，所述方法包括：接收包括所需电路层布局的电路设计层数据，所述布局包括多个线路；在所述多个线路中标识第一线路部分以用作第一电路功能及标识第二线路部分以用作不同于所述第一电路功能的第二电路功能，所述第一线路部分平行且毗邻于所述第二线路部分；及在输出数据文件中提供所述标度线数据以用于形成特征于所述标度线上，所述提供步骤包括：指示所述标度线上将形成第一主特征的位置，所述第一主特征对应于所述第一线路部分；指示所述标度线上将形成第二主特征的位置，所述第二主特征对应于所述第二线路部分；及指示用于在所述标度线上形成至少一个辅助特征的参数，所述辅助特征具有在所述第一主特征与所述第二主特征之间的区域，其中在使用所述标度线以用于将所述图像投射到所述半导体晶片中，与所述第二主特征相比，所述区域将给予所述第一主特征更大的辅助。
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