[发明专利]用于将无掩模图形转移到光敏基板上的光刻方法

摘要

本发明提出了“亚像素滚动方法”，其使用在DMD与投影光学部件之间的附加的45°镜以相对于投影轴每一次将镜基元光学地移动一个亚像素尺寸。在优选的实施例中，通过可控制的执行器，将所述45°镜移动1/4的镜基元宽度。通过扫描拖运器的位置指示器信号以这样的所述镜基元(当使用标准滚动方法时)似乎相对于基板表面基元静止的方式同步位置的该改变的尺寸和时间点。与使用标准滚动方法不同，该复位不受限于kHz的DMD开关速度。通过较高的分辨率，本发明减小了在边缘过渡处的模糊并且有助于较高的扫描速度，由此所述扫描速度依赖于所述致动器的动力、UV源的有效UV－功率以及光敏聚合物的敏感度。本发明的另外的有利功能是以比通过所述镜基元尺寸所给出的分辨率更高的分辨率转移图形的可能性。为了增加沿X(扫描方向)和Y(垂直于所述扫描方向)的分辨率，沿X和Y工作的两个镜致动器是必需的。

主权项

1.一种用于将图形无掩模转移到光敏基板上的光刻方法，包括以下步骤：通过沿扫描方向可移动的偏移镜和投影光学部件将数字镜阵列的至少一个镜基元的辐照表面成像到所述基板上；相对于所述基板移动镜基元、成像光学部件以及通过所述镜基元曝光的基板表面基元；通过测量系统连续测量位置的所述改变；在到达位置的限定改变之后产生触发信号；通过所述触发信号触发，通过沿射线的路径的所述偏移镜的位置的改变来改变所述成像光学部件的所述射线的路径从而将所述曝光的基板表面基元复位在起始位置上；重复所述过程直到所述偏移镜的复位潜力被消耗；通过关闭所述数字镜阵列的所有镜基元，中断所述基板表面基元的曝光；将所述偏移镜复位在所述起始位置上；为了继续所述基板表面基元的曝光沿扫描方向准备镜基元；测量在所述准备的镜基元与所述基板表面基元之间的覆盖位置并且当到达所述覆盖时产生触发信号；以及通过所述触发信号开启所述准备的镜基元并继续所述曝光。