[发明专利]图案形成方法无效
| 申请号： | 200680014526.9 | 申请日： | 2006-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN101167021A | 公开（公告）日： | 2008-04-23 |
| 发明（设计）人： | 芹泽慎一郎;佐藤守正 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/38 | 分类号： | G03F7/38;G03F7/004;G03F7/027;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供良好地抑制因安全灯等光源的图案形成材料的敏感度变化，保存稳定性优良，可以高精细且有效地形成布线图案等永久图案的图案形成方法。由此提供一种图案形成方法，其使用具有支承体和该支承体上的至少在350～500nm下显示感光特性的感光层，且能量敏感度为1～20mJ/cm2的图案形成材料，在具有380～500nm的波长区域，且该波长区域中的至少一个波长的能量强度在1×10－2μW/cm2/nm以下的光源下，进行向基材表面的感光层的叠层工序、和该叠层工序和直到曝光前的工序中的至少一个工序。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种图案形成方法，其特征在于，使用具有支承体和在该支承体上的至少在350～500nm下显示感光特性的感光层，且能量敏感度为1～20mJ/cm2的图案形成材料，在具有380～500nm的波长区域且该波长区域内的至少一个波长的能量强度在1×10-2μW/cm2/nm以下的光源下，进行向基材表面叠层感光层的叠层工序、和该叠层工序至曝光前的工序中的至少一工序。
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