[发明专利]使用偏振光的微光刻曝光装置及具有凹面主镜和凹面辅镜的微光刻投射系统

摘要

本发明涉及一种微光刻投射曝光装置，其使用的波长≤100nm，尤其是用于EUV光刻的波长＜50nm，优选地＜20nm，该微光刻投射曝光装置具有：照明系统，该照明系统使用限定的偏振状态的光来照亮物体平面中的场；以及物镜，其将物体平面中的场投射到像平面中，所述偏振光从物体平面穿过所述物镜到达像平面。

主权项

1.一种微光刻投射曝光装置，使用的波长≤100nm，尤其是用于EUV光刻的波长＜50nm，优选地波长＜20nm，所述微光刻投射曝光装置包括：照明系统，所述照明系统使用限定的偏振状态的光来照亮物体平面中的场；以及投射系统，至少具有第一镜(S1)、第二镜(S2)、第三镜(S3)、和第四镜，其中，所述投射系统将所述物体平面中的场投射成像平面中的图像，并且其中，所述偏振光从所述物体平面穿过所述系统到达所述像平面，并且所述投射系统具有的图像侧数值孔径NA至少为0.3，优选地至少为0.35，更优选地至少为0.4，更优选地至少为0.45，最优选地至少为0.5。