[发明专利]用于清除蚀刻后和灰化的光致抗蚀剂残余物及大部分光致抗蚀剂的组合物有效
| 申请号： | 200680015505.9 | 申请日： | 2006-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN101171551A | 公开（公告）日： | 2008-04-30 |
| 发明（设计）人： | 肖恩·M·凯恩 | 申请（专利权）人： | 马林克罗特贝克公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;H01L21/3213 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 张平元;赵仁临 |
| 地址： | 美国新*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供了用于清洁微电子基板的清洁组合物，所述清洁组合物基本上可以完全清洁这些基板并抑制金属的腐蚀或使这些基板的金属元素基本上无腐蚀，且与现有技术含碱性的清洁组合物相比需要相对短的清洁时间和相对低的温度。本发明还提供了使用此清洁组合物清洁微电子基板而不产生任何此微电子基板金属元素的明显腐蚀的方法。本发明的清洁组合物包括(a)至少一种有机溶剂，(b)至少一种未中和的含磷的无机酸，和(c)水。任选地本发明的清洁组合物可以含有其他成分，如表面活性剂、金属配合或螯合剂、腐蚀抑制剂等。本发明的清洁组合物的特征为不含有机胺、羟胺或其他会中和含磷的无机酸成分的强碱，如铵碱等。本发明清洁和去除残余物的组合物尤其适合于清洁含有铝、钛和钨的微电子基板。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 清除 蚀刻 灰化 光致抗蚀剂 残余物 大部 分光 致抗蚀剂 组合 | ||
【主权项】：
1.用于清洁微电子基板的组合物，其含有下列成分：(a)至少一种水溶性或可与水混合的有机溶剂，(b)至少一种未中和的含磷的无机酸，和(c)水，其中所述组合物不含有机胺、羟胺和会中和含磷无机酸成分的强碱。
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