[发明专利]使用可去除膜制备浮雕图像

摘要

本发明涉及使用可去除膜制备具有浮雕图像的制品的方法。首先，将至少包含掩模基体和可成像材料的可成像膜成像式曝光于成像性辐射中形成成像膜。然后将该成像膜转移到可成像制品上，例如平板印版前体。将所形成的组件曝光于固化性辐射中，在可成像制品上形成光敏材料的曝光和未曝光区域。在曝光于固化性辐射之后，然后将该成像膜从可成像制品上去除。然后用适当的显影剂使该可成像制品显影，形成浮雕图像。然后该成像膜可以重复使用以制备其它具有浮雕图像的制品。

主权项

1.一种制备浮雕图像的方法，该方法包括以下步骤：(a)将包含掩模基体和可成像材料的可成像膜成像式曝光于成像性辐射中，形成包含在掩模基体上的掩模图像的成像膜；(b)将该成像膜层压到包含设置在光敏材料上的释放层的可成像制品上；(c)将没有真空下吸的该可成像制品通过该成像膜曝光于固化性辐射中；(d)从该可成像制品上除去该成像膜，使该成像膜可重复使用；以及(e)使该可成像制品进行显影，形成该浮雕图像。