[发明专利]在半导体衬底上形成曲线轮廓的工艺

摘要

通过阳极化使半导体衬底成形为具有曲面轮廓。在被阳极化之前，衬底在其下表面具有阳极图案，从而使阳极和衬底成为整体的结构，其中该阳极图案被准确地再现在衬底上。阳极化利用了电解液，一旦形成作为阳极化产物的氧化部分，该电解液即蚀刻掉该氧化部分，以此来产生具有与阳极图案相匹配的多孔层。该阳极图案产生在平面内变化的电场强度分布，通过该变化的电场强度分布，所产生的多孔层的形状与想要的表面轮廓互补。当完成了阳极化之后，通过从衬底中蚀刻掉多孔层和阳极图案而在衬底的表面上露出曲面。

主权项

1.一种在半导体衬底上形成曲线轮廓的工艺，所述工艺包括以下步骤：制备所述半导体衬底，该半导体衬底具有彼此相对的上表面和下表面；在所述下表面上形成阳极；将所述半导体衬底放置在电解液中；使电流在所述阳极和所述电解液中的阴极之间流动，以转换所述半导体衬底的上表面使各部分之间深度不同，在所述上表面内留下多孔层；以及从所述半导体衬底中去除所述多孔层，以在所述上表面上留下曲面；其特征在于所述阳极被配置为具有电场强度的预定分布，该电场强度穿过所述半导体衬底的上表面和下表面并且在所述半导体衬底的各部分之间不同，从而提供具有与所述电场强度的分布相匹配的变化深度的多孔层。