[发明专利]带有填充纳米管的通道的微流控器件及其生产方法有效

专利信息
申请号: 200680017158.3 申请日: 2006-05-11
公开(公告)号: CN101175991A 公开(公告)日: 2008-05-07
发明(设计)人: 弗洛伦斯·里库尔;尼古拉斯·萨拉特;让·迪乔恩;弗朗索瓦·瓦因特 申请(专利权)人: 原子能委员会
主分类号: G01N27/40 分类号: G01N27/40;B81B1/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 马高平
地址: 法国*** 国省代码: 法国;FR
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摘要: 一种微流控器件包括由顶壁(6)、底壁(3)和两个相对的侧壁(4,5)限定的至少一个通道(2)。所述顶壁(6)和底壁(3)之间的距离(P)大于或等于25μm,并且第一和第二组纳米管(9a,9b)分别由所述相对的侧壁(4,5)支承,使得器件具有特别高的接触面积与可用体积之比和有限的整体表面尺寸。另外,所述两个相对的侧壁(4,5)之间的距离大约为数微米,优选为3~5μm。
搜索关键词: 带有 填充 纳米 通道 微流控 器件 及其 生产 方法
【主权项】:
1.一种微流控器件,它包括由顶壁(6)、底壁(3)和两个相对的侧壁(4,5)限定的至少一个通道(2),所述通道的至少一个壁支承基本上与所述壁垂直地配置的多个纳米管;其特征在于,所述顶壁(6)和底壁(3)之间的距离(P)大于或等于25μm,第一和第二组纳米管(9a,9b)分别由所述相对的侧壁(4,5)支承,以填充所述通道(2),并且所述两个相对的侧壁(4,5)之间的距离(L)大约为数微米。
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