[发明专利]不随工艺变化的带隙基准电路和方法无效

专利信息
申请号: 200680017588.5 申请日: 2006-03-21
公开(公告)号: CN101180594A 公开(公告)日: 2008-05-14
发明(设计)人: P·C·A·特德帕斯;A·斯德赫 申请(专利权)人: 德克萨斯仪器股份有限公司
主分类号: G05F1/46 分类号: G05F1/46;G05F3/08
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 赵蓉民
地址: 美国德*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 集成电路产生和环境温度或制造工艺变化无关的恒定的基准电压Vref。补偿电路自适应地补偿带隙基准电压中引起的任何偏差。与Vbe偏离标称值的偏差成比例的电流被注入到发射极-基极结,以使Vbe等于标称值。由于负反馈,放大器350使节点351-352保持在相同电位,使得与双极型晶体管315-316的基极-发射极电压之间的差值成比例的电流流过电阻器321-324。这个电流与绝对温度成比例(PTAT)并且产生了与绝对温度成比例的电压降。电压Vref是电阻器323、324两端的电压降和晶体管316的Vbe之和,电压Vref不随温度的变化而变化。与Vbe1-Vbe2之差成比例的PTAT项对工艺保持不变。
搜索关键词: 工艺 变化 基准 电路 方法
【主权项】:
1.一种集成电路,其包括:接收基准信号的部件;和基于带隙基准产生所述基准信号的基准产生电路,所述基准信号依赖于出现在结两端的第一电压,所述第一电压依赖于用于实现所述集成电路的制造工艺,所述基准产生电路自适应地将所述基准信号的强度调整为预定值,而和所述制造工艺的变化无关。
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