[发明专利]光刻设备和器件制造方法无效
| 申请号： | 200680018029.6 | 申请日： | 2006-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN101180582A | 公开（公告）日： | 2008-05-14 |
| 发明（设计）人： | 埃瑞克·派卓斯·伯曼;汤姆斯·约瑟夫斯·玛丽亚·卡斯腾米勒;约翰尼斯·威尔荷尔姆斯·玛丽亚·科尼利斯·蒂尤乌森;贝尔雷切·莫爱斯特;马克·安东尼斯·玛丽亚·哈斯特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种利用代表辐射源的波长改变的数据提供焦平面控制或提供传感器数据修正的方法和设备。在第一方面，波长变化数据被提供用于控制系统，所述控制系统通过移动包括例如掩模台、衬底台或投影光学系统的光学元件的设备部件控制聚焦。在第二方面，变化的数据用于修正例如由机内传感器，例如透射图像传感器，测量的焦平面位置数据。这两个方面可以组合在单个设备中，或者可以独立地使用。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种采用光刻设备将图案成像到衬底上的方法，包括步骤：对辐射束进行图案化；测量辐射束的波长变化；基于所测量到的波长变化确定最好重叠条件；以及基于所确定的最好重叠条件将图案化的辐射束投影到衬底上。
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