[发明专利]图像曝光设备

摘要

一种图像曝光设备，包括：空间光调制元件(50)，由用于独立地调制照射到其上的光的多个像素部构成；光源(66)，用于将光束B照射到空间光调制元件上；和光学系统(51)，用于聚焦由每个像素部承载的图像；以及微透镜阵列(55)，在所述微透镜阵列(55)中，以阵列形式设置由像素部调制的光束独立地进入的多个微透镜(55a)。微透镜阵列(55)被设置在像素部通过聚焦光学系统(51)聚焦的聚焦位置附近。微透镜阵列(55)的每个微透镜(55a)，在垂直于光轴的平面内的两个方向上具有不同的光焦度，以便修正由于像素部的各向异性的畸变造成的像差。

主权项

1.一种图像曝光设备，包括：空间光调制元件，在所述空间光调制元件中，设置用于根据控制信号独立地调制照射到其上的光的多个像素部；光源，用于将光照射到空间光调制元件上；以及聚焦光学系统，用于将由经过调制的光承载的图像聚焦到感光材料上，所述聚焦光学系统包括：光学系统，用于聚焦已经被空间光调制元件的每个像素部调制的光束，以便聚焦每个像素部的图像；以及微透镜阵列，在所述微透镜阵列中，设置多个微透镜，由像素部调制并通过光学系统的光束独立地进入所述多个微透镜；所述微透镜阵列被设置在像素部的图像被光学系统聚焦的位置附近；以及所述微透镜阵列的每个微透镜在垂直于进入其中的光束的光轴的平面内的两个方向上具有不同的光焦度，以便修正由于像素部的各向同性的畸变造成的像差。