[发明专利]描绘方法及装置

摘要

本发明提供一种曝光方法及装置，使多个曝光头相对于曝光面沿规定的扫描方向相对地移动，从而在曝光面上曝光图像，其曝光合适的图像而不产生每个曝光头的图像的偏离。使用在各曝光头30₂₁、30₁₂上预先设定的基准微反射镜r₂₁、r₁₂，在曝光面上形成各曝光头30₂₁、30₁₂的基准点rp₂₁、rp₁₂，并且控制基于各曝光头20₂₁、30₁₂的曝光时刻，以使每个曝光头30₁₂、30₁₂的基准点rp₂₁、rp₁₂排列在基准线RL上。

主权项

1.一种描绘方法，其使描绘头相对于描绘面沿规定的扫描方向相对地移动，与该移动对应地在所述描绘面上依次形成所述描绘点，从而在所述描绘面上描绘图像，所述描绘头具有描绘元件二维状配置的描绘点形成部，所述描绘元件基于表示所述图像的图像数据在描绘面上形成描绘点，其中，利用与所述扫描方向交叉的方向上排列的多个所述描绘头进行所述描绘，所述描绘方法的特征在于，使用在每个描绘头上预先设定的基准描绘元件，在所述描绘面上形成所述每个描绘头的基准点，并且控制基于所述各描绘头的描绘时刻，以使所述每个描绘头的基准点在所述扫描方向上的规定的位置处排列。