[发明专利]用于刺绣部分的转印织后染色法的掩蔽用基布无效
| 申请号： | 200680019437.3 | 申请日： | 2006-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN101189386A | 公开（公告）日： | 2008-05-28 |
| 发明（设计）人： | 井出润也;水城俊;泷岛启介;镰田英树;杉野顺一 | 申请（专利权）人： | 可乐丽股份有限公司 |
| 主分类号： | D06P5/00 | 分类号： | D06P5/00;D05C17/00;D06M17/00;D06P5/12;D06Q1/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王健 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 将水溶性薄膜与由水溶性纤维制成的支持体贴合而成的复合体构成的掩蔽用基布。在包含使用转印纸对刺绣部分进行织后染色的工序的刺绣布的制造中，为了防止转印染色时染料从机孔部分进行移染而使用该掩蔽用基布。该掩蔽用基布能够用水容易地溶解除去，适用于制造即使是复杂的颜色花样的刺绣，刺绣部分的色彩、轮廓也鲜明，手感优异的刺绣布。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 刺绣 部分 转印织后 染色 掩蔽 用基布 | ||
【主权项】：
1.水溶性掩蔽用基布，其特征在于，是将由水溶性纤维制成的支持体与水溶性薄膜贴合而成的复合片材，在利用转印对刺绣部分进行织后染色的方法中，为了防止染料向刺绣部分以外移染而使用。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于可乐丽股份有限公司，未经可乐丽股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200680019437.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：用于低风井的通风结构
- 下一篇：滚动清洁装置
