[发明专利]曝光装置及曝光方法无效
| 申请号： | 200680019632.6 | 申请日： | 2006-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN101189556A | 公开（公告）日： | 2008-05-28 |
| 发明（设计）人： | 小森一树;石川弘美;大森利彦;冈崎洋二;马场智之 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社;富士能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种曝光装置及曝光方法，能高精度地投影曝光图像。作为曝光装置的构成元件，具备：射出曝光光的光源；DMD，其上二维状排列多个像素部，基于图像信号按每个像素部对从光源入射到多个像素部的曝光光进行空间光调制；远心光学系统，其被配置在入射到DMD的曝光光的光路上，使曝光光的主光线平行。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种曝光装置，其特征是，具备：光源，用于射出曝光光；空间光调制机构，二维状排列有多个像素部，基于图像信号对从所述光源入射到所述多个像素部的曝光光按所述每个像素部进行空间光调制；远心光学机构，其被配置在入射到该空间光调制机构的所述曝光光的光路上，使所述曝光光的主光线平行。
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