[发明专利]正型抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法有效
申请号: | 200680019830.2 | 申请日: | 2006-04-07 |
公开(公告)号: | CN101198905A | 公开(公告)日: | 2008-06-11 |
发明(设计)人: | 木下洋平 | 申请(专利权)人: | 东京应化工业株式会社 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/039;H01L21/027 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 朱丹 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种正型抗蚀剂组合物,其中含有树脂成分(A)、以及可通过曝光产生酸的酸发生剂成分(B);上述酸发生剂成分(B)含有由下述通式(B1)表示的酸发生剂(B1),(B1)[式中,R51表示直链、支链或环状的烷基、或者直链、支链或环状的氟代烷基;R52为氢原子、羟基、卤素原子、直链、支链或环状的烷基、直链或支链状的卤代烷基、或者直链或支链状的烷氧基;R53为可具有取代基的芳基;n为1~3的整数]。 | ||
搜索关键词: | 正型抗蚀剂 组合 以及 抗蚀剂 图案 形成 方法 | ||
【主权项】:
1.一种正型抗蚀剂组合物,其中含有一种具有酸离解性溶解抑制基、且可通过酸的作用使碱可溶性增大的树脂成分(A),以及可通过曝光产生酸的酸发生剂成分(B);上述酸发生剂成分(B)含有由下述通式(B1)表示的酸发生剂(B1):【化1】式中,R51表示直链、支链或环状的烷基、或者直链、支链或环状的氟代烷基;R52为氢原子、羟基、卤素原子、直链、支链或环状的烷基、直链或支链状的卤代烷基、或者直链或支链状的烷氧基;R53为可具有取代基的芳基;n为1~3的整数。
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