[发明专利]用于测量位移的光谱分布的光谱设备无效
| 申请号： | 200680020430.3 | 申请日： | 2006-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN101213428A | 公开（公告）日： | 2008-07-02 |
| 发明（设计）人： | 莫藤·亨内贝格;斯蒂芬·O·班克 | 申请（专利权）人： | RSP系统有限责任公司 |
| 主分类号： | G01J3/44 | 分类号： | G01J3/44;G01J3/08 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 蒋世迅 |
| 地址： | 丹麦*** | 国省代码： | 丹麦;DK |
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| 摘要： | 本发明涉及一种测量光束至少两种光谱学上位移的光谱分布的光谱设备，所述设备包括色散元件和检测器，所述色散元件当被光束照射时，适用于产生所述光束中光谱分量的空间色散；该检测器适用于测量至少一部分所述色散光谱分量的强度；所述设备还包括光学位移装置，适用于以至少两种不同方式照射所述色散元件，使所述光束不同地投射到所述色散元件上，从而使所述色散元件产生所述光束中光谱分量的至少两种空间上位移的空间色散。本发明还涉及一种探测系统，该探测系统包括：测量光束至少两种光谱学上位移的光谱分布的所述光谱设备，和测量光束至少两种光谱学上位移的光谱分布的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 测量 位移 光谱 分布 设备 | ||
【主权项】：
1.一种测量光束至少两种光谱学上位移的光谱分布的光谱设备，所述设备包括：·色散元件，所述色散元件当被光束照射时，适用于产生所述光束中光谱分量的空间色散；·检测器，适用于测量至少一部分所述色散光谱分量的强度；特征在于，所述设备还包括：·光学位移装置，适用于以至少两种不同方式照射所述色散元件，使所述光束不同地投射在所述色散元件上，从而使所述色散元件产生所述光束中光谱分量的至少两种空间上位移的空间色散。
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