[发明专利]高压密封构造、用于加工高压接触表面的方法及燃料喷射器无效
| 申请号： | 200680020954.2 | 申请日： | 2006-06-13 |
| 公开（公告）号： | CN101198786A | 公开（公告）日： | 2008-06-11 |
| 发明（设计）人： | 久保田治;由井隆行;古川英雄 | 申请（专利权）人： | 博世株式会社 |
| 主分类号： | F02M61/16 | 分类号： | F02M61/16 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 曾祥夌;赵辛 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种高压密封结构、用于高压密封表面的处理方法和燃料喷射阀。通过将喷射器壳体(2)的第一密封表面(24)贴压到喷嘴体(3)的第二密封表面(25)，而使高压密封部(26)形成于第一和第二燃料通路(13、14)之间的连接部分处，第一燃料通路(13)朝向第一密封表面(24)，第二燃料通路(14)朝向第二密封表面(25)。彼此同心形成的密封沟槽(24A、25A)通过精加工而形成于第一密封表面(24)和第二密封表面(25)中的至少一个上，因此能有效地抑制高压燃料的泄漏。第一密封表面(24)与第二密封表面(25)可形成凹入形状。 | ||
| 搜索关键词： | 高压 密封 构造 用于 加工 接触 表面 方法 燃料 喷射器 | ||
【主权项】：
1.一种用于燃料喷射器的高压密封构造，所述高压密封构造通过使喷射器壳体的壳体端面与喷嘴体的喷嘴体端面在第一燃料通路和第二燃料通路的连接部分内互相之间进行压力接触而制成，所述第一燃料通路朝向所述壳体端面，所述第二燃料通路朝向所述喷嘴体端面，所述高压密封构造的特征在于，同心圆形式的沟槽被应用于所述高压密封构造的高压接触表面上。
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